熱解氮化硼化學(xué)氣相生長爐

產(chǎn)品描述：: 用于氮化硼的化學(xué)氣相涂層與生長

應(yīng)用范圍：: OLED坩堝、PBN板材/環(huán)舟、VGF坩堝、LEC坩堝等。產(chǎn)品純度≥99.999%/99.9999%。

產(chǎn)品咨詢索取報(bào)價(jià)400-677-0098

技術(shù)特征
產(chǎn)品規(guī)格
配置選擇

熱解氮化硼化學(xué)氣相生長爐技術(shù)特征

采用先進(jìn)的進(jìn)控制技術(shù)，能精密控制BCl3/NH3的流量和壓力，爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定，壓力波動(dòng)?。?/span>

多通道工藝氣路，配合旋轉(zhuǎn)料臺，無沉積死角；

多級尾氣處理系統(tǒng)，能高效處理腐蝕性尾氣、固體副產(chǎn)物，環(huán)境友好；

可選配最新設(shè)計(jì)的防腐蝕真空機(jī)組，持續(xù)工作時(shí)間長，維修率低；

適于工藝氣氛：真空/H₂/N₂/Ar/BCl₃/NH₃。

熱解氮化硼化學(xué)氣相生長爐產(chǎn)品規(guī)格

參數(shù)\型號	VCVD-0305-BN	VCVD-0608-BN	VCVD-0612-BN	VCVD-0812-BN	VCVD-1015-BN	VCVD-1218-BN	VCVD-1315-BN	VCVD-1520-BN
工作區(qū)尺寸 φ×H（mm）	300×500	600×800	600×1200	800×1200	1000×1500	1200×1800	1300×1500	1500×2000
最高溫度（℃）	2000
溫度均勻性（℃）	±5	±7.5/±10	±7.5/±10	±7.5/±10	±10/±15	±10/±15	±10/±15	±15/±20
極限真空度（Pa）	1-100
壓升率（Pa/h）	0.67
加熱方式	電阻

以上參數(shù)可根據(jù)工藝要求進(jìn)行調(diào)整，不作為驗(yàn)收依據(jù)，具體以技術(shù)方案和協(xié)議為準(zhǔn)。

熱解氮化硼化學(xué)氣相生長爐配置選擇

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